Plasma Chemistry And Plasma Processing SCIE

Plasma Chemistry And Plasma Processing(中文譯名等離子化學和等離子處理雜志)是一本專注于工程技術,工程：化工領域的國際期刊，致力于為全球ENGINEERING, CHEMICAL領域的研究者提供一個高質量的學術交流平臺。該期刊ISSN：0272-4324，E-ISSN：1572-8986，出版周期Quarterly。在中科院的大類學科分類中，該期刊屬于物理與天體物理范疇，而在小類學科中，它主要涵蓋了ENGINEERING, CHEMICAL這一領域。編輯部誠摯邀請廣大物理與天體物理領域的專家學者投稿，內容可以涵蓋物理與天體物理的綜合研究、實踐應用、創新成果等方面。同時，我們也歡迎學者們就相關主題進行簡短的交流和評論，以促進學術界的互動與合作。為了保證期刊的質量，審稿周期預計為 較慢,6-12周 。在此期間，編輯部將對所有投稿進行嚴格的同行評審，以確保發表的文章具有較高的學術價值和實用性。

值得一提的是，Plasma Chemistry And Plasma Processing近期并未被列入國際期刊預警名單，這意味著其學術質量和影響力得到了廣泛認可。該期刊為物理與天體物理領域的學者提供了一個優質的學術交流平臺。因此，關注并投稿至Plasma Chemistry And Plasma Processing無疑是一個明智的選擇，這將有助于提升您的學術聲譽和研究成果的傳播。

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