Plasma Sources Science & Technology（等離子源科技雜志）是由IOP Publishing Ltd.出版社主辦的一本以物理與天體物理-PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS為研究方向，OA非開放（Not Open Access）的國際優(yōu)秀期刊。旨在幫助發(fā)展和壯大物理與天體物理及相關(guān)學(xué)科的各個方面。該期刊接受多種不同類型的文章。本刊出版語言為English，創(chuàng)刊于1992年。自創(chuàng)刊以來，已被SCIE（科學(xué)引文索引擴展板）等國內(nèi)外知名檢索系統(tǒng)收錄。該雜志發(fā)表了高質(zhì)量的論文，重點介紹了PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS在分析和實踐中的理論、研究和應(yīng)用。
ISSN：0963-0252
E-ISSN：1361-6595
出版商：IOP Publishing Ltd.
出版語言：English
出版地區(qū)：ENGLAND
出版周期：Bimonthly
是否OA：未開放
是否預(yù)警：否
創(chuàng)刊時間：1992
年發(fā)文量：242
影響因子：3.3
研究類文章占比：99.17%
Gold OA文章占比：26.54%
H-index：94
出版國人文章占比：0.1
出版撤稿文章占比：
開源占比：0.19...
文章自引率：0.3157...
《Plasma Sources Science & Technology》是一份國際優(yōu)秀期刊，為物理與天體物理領(lǐng)域的研究人員和從業(yè)者提供科學(xué)論壇。該期刊涵蓋了物理與天體物理及相關(guān)學(xué)科的所有方面，包括基礎(chǔ)和應(yīng)用研究，使讀者能夠獲得來自世界各地的最新、前沿的研究。該期刊歡迎涉及物理與天體物理領(lǐng)域的原創(chuàng)理論、方法、技術(shù)和重要應(yīng)用的稿件，并刊載了涉及物理與天體物理領(lǐng)域的相關(guān)欄目：綜述、論著、述評、論著摘要等。所有投稿都有望達到高標準的科學(xué)嚴謹性，并為推進該領(lǐng)域的科研知識傳播做出貢獻。該期刊最新CiteScore值為7.1，最新影響因子為3.3，SJR指數(shù)為0.771，SNIP指數(shù)為1.373。
CiteScore指標的應(yīng)用非常廣泛，以期刊的引用次數(shù)為基礎(chǔ)評估期刊的影響力。它可以反映期刊的學(xué)術(shù)影響力和學(xué)術(shù)水平，是學(xué)術(shù)界常用的期刊評價指標之一。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||
| 7.1 | 0.771 | 1.373 |
|
CiteScore是由Elsevier公司開發(fā)的一種用于衡量科學(xué)期刊影響力的指標，以期刊的引用次數(shù)為基礎(chǔ)評估期刊的影響力。這個指標是由Scopus數(shù)據(jù)庫支持，以四年為一個時段，連續(xù)評估期刊和叢書的引文影響力的。具體來說，CiteScore是計算某期刊連續(xù)三年發(fā)表的論文在第四年度的篇均引用次數(shù)。CiteScore和影響因子（IF）有所不同。例如，在影響因子的計算中，分子是來自所有文章的引用次數(shù)，包括編輯述評、讀者來信、更正信息和新聞等非研究性文章，而分母則不包括這些非研究性文章。然而，在CiteScore的計算中，分子和分母都包括這些非研究性文章。因此，如果這些非研究性文章比較多，由于分母較大，相較于影響因子，CiteScore計算出來的分數(shù)可能會偏低。此外，CiteScore的引用數(shù)據(jù)來自Scopus數(shù)據(jù)庫中的22000多個期刊，比影響因子來自Web of Science數(shù)據(jù)庫的11000多個期刊多了一倍。
| 按JIF指標學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.3% |
| 按JCI指標學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.25% |
WOS(JCR)分區(qū)是由科睿唯安公司提出的一種新的期刊評價指標，分區(qū)越靠前一般代表期刊質(zhì)量越好，發(fā)文難度也越高。這種分級體系有助于科研人員快速了解各個期刊的影響力和地位。JCR將所有期刊按照各個學(xué)科領(lǐng)域進行分類，然后以影響因子為標準平均分為四個等級：Q1、Q2、Q3和Q4區(qū)。這種設(shè)計使得科研人員可以更容易地進行跨學(xué)科比較。
中科院SCI期刊分區(qū)是由中國科學(xué)院國家科學(xué)圖書館制定的。將所有的期刊按照學(xué)科進行分類，以影響因子為標準平均分為四個等級。分區(qū)越靠前一般代表期刊質(zhì)量越好，發(fā)文難度也越高。
2023年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
| 否 | 否 | 物理與天體物理 2區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
1區(qū)
|
2022年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
| 是 | 否 | 物理與天體物理 1區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
1區(qū)
|
2021年12月舊的升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
| 是 | 否 | 物理與天體物理 2區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
1區(qū)
|
2021年12月基礎(chǔ)版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
| 是 | 否 | 物理 2區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
1區(qū)
|
2021年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
| 是 | 否 | 物理與天體物理 2區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
1區(qū)
|
2020年12月舊的升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學(xué)科 | 小類學(xué)科 |
| 否 | 否 | 物理與天體物理 2區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
2區(qū)
|
Plasma Sources Science & Technology(中文譯名等離子源科技雜志)是一本專注于物理,物理：流體與等離子體領(lǐng)域的國際期刊，致力于為全球PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領(lǐng)域的研究者提供一個高質(zhì)量的學(xué)術(shù)交流平臺。該期刊ISSN：0963-0252，E-ISSN：1361-6595，出版周期Bimonthly。在中科院的大類學(xué)科分類中，該期刊屬于物理與天體物理范疇，而在小類學(xué)科中，它主要涵蓋了PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS這一領(lǐng)域。編輯部誠摯邀請廣大物理與天體物理領(lǐng)域的專家學(xué)者投稿，內(nèi)容可以涵蓋物理與天體物理的綜合研究、實踐應(yīng)用、創(chuàng)新成果等方面。同時，我們也歡迎學(xué)者們就相關(guān)主題進行簡短的交流和評論，以促進學(xué)術(shù)界的互動與合作。為了保證期刊的質(zhì)量，審稿周期預(yù)計為 約6.0個月 。在此期間，編輯部將對所有投稿進行嚴格的同行評審，以確保發(fā)表的文章具有較高的學(xué)術(shù)價值和實用性。
值得一提的是，Plasma Sources Science & Technology近期并未被列入國際期刊預(yù)警名單，這意味著其學(xué)術(shù)質(zhì)量和影響力得到了廣泛認可。該期刊為物理與天體物理領(lǐng)域的學(xué)者提供了一個優(yōu)質(zhì)的學(xué)術(shù)交流平臺。因此，關(guān)注并投稿至Plasma Sources Science & Technology無疑是一個明智的選擇，這將有助于提升您的學(xué)術(shù)聲譽和研究成果的傳播。
多年來，我們專注于期刊投稿服務(wù)，能夠為您分析推薦目標期刊。憑借多年來豐富的投稿經(jīng)驗和專業(yè)指導(dǎo)，我們有效助力提升錄用幾率。點擊以下按鈕即可免費咨詢。
投稿咨詢| 國家 / 地區(qū) | 發(fā)文量 |
| USA | 198 |
| CHINA MAINLAND | 137 |
| GERMANY (FED REP GER) | 136 |
| France | 122 |
| Russia | 108 |
| Netherlands | 61 |
| Japan | 56 |
| Czech Republic | 53 |
| England | 40 |
| Italy | 34 |
| 期刊引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 1276 |
| J APPL PHYS | 702 |
| PHYS PLASMAS | 595 |
| APPL PHYS LETT | 335 |
| IEEE T PLASMA SCI | 296 |
| J CHEM PHYS | 236 |
| PHYS REV A | 227 |
| PHYS REV LETT | 189 |
| PHYS REV E | 167 |
| 期刊被引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 745 |
| PHYS PLASMAS | 733 |
| IEEE T PLASMA SCI | 427 |
| J APPL PHYS | 370 |
| PLASMA CHEM PLASMA P | 186 |
| JPN J APPL PHYS | 171 |
| PLASMA PROCESS POLYM | 165 |
| PLASMA SCI TECHNOL | 148 |
| VACUUM | 110 |
| 文章引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
| Review on experimental and theoretical inv... | 23 |
| The importance of thermal dissociation in ... | 20 |
| Comparison of six simulation codes for pos... | 19 |
| The LisbOn KInetics Boltzmann solver | 17 |
| Energetic ions during plasma-enhanced atom... | 17 |
| Foundations of low-temperature plasma enha... | 17 |
| Foundations of High-Pressure Thermal Plasm... | 16 |
| Kinetic study of low-temperature CO2 plasm... | 16 |
| Atmospheric-pressure pulsed plasma actuato... | 15 |
| Modelling the helium plasma jet delivery o... | 14 |
若用戶需要出版服務(wù)，請聯(lián)系出版商：IOP PUBLISHING LTD, DIRAC HOUSE, TEMPLE BACK, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE。