Ieee Transactions On Nuclear Science

Ieee Transactions On Nuclear Science SCIE

IEEE核科學匯刊  國際簡稱:IEEE T NUCL SCI

  • 工程技術 大類學科
  • NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 小類學科
  • 3區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q1 JCR分區(qū)

Ieee Transactions On Nuclear Science(IEEE核科學匯刊雜志)是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版社主辦的一本以工程技術-NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY為研究方向,OA非開放(Not Open Access)的國際優(yōu)秀期刊。旨在幫助發(fā)展和壯大工程技術及相關學科的各個方面。該期刊接受多種不同類型的文章。本刊出版語言為English,創(chuàng)刊于1954年。自創(chuàng)刊以來,已被SCIE(科學引文索引擴展板)等國內(nèi)外知名檢索系統(tǒng)收錄。該雜志發(fā)表了高質(zhì)量的論文,重點介紹了NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY在分析和實踐中的理論、研究和應用。

雜志介紹

  • ISSN:0018-9499

    E-ISSN:1558-1578

    出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

  • 出版語言:English

    出版地區(qū):UNITED STATES

    出版周期:Bimonthly

  • 是否OA:未開放

    是否預警:否

    創(chuàng)刊時間:1954

  • 年發(fā)文量:330

    影響因子:1.9

    研究類文章占比:99.70%

    Gold OA文章占比:16.44%

    H-index:110

    出版國人文章占比:0.13

    出版撤稿文章占比:

    開源占比:0.15...

    文章自引率:0.2777...

《Ieee Transactions On Nuclear Science》是一份國際優(yōu)秀期刊,為工程技術領域的研究人員和從業(yè)者提供科學論壇。該期刊涵蓋了工程技術及相關學科的所有方面,包括基礎和應用研究,使讀者能夠獲得來自世界各地的最新、前沿的研究。該期刊歡迎涉及工程技術領域的原創(chuàng)理論、方法、技術和重要應用的稿件,并刊載了涉及工程技術領域的相關欄目:綜述、論著、述評、論著摘要等。所有投稿都有望達到高標準的科學嚴謹性,并為推進該領域的科研知識傳播做出貢獻。該期刊最新CiteScore值為3.7,最新影響因子為1.9,SJR指數(shù)為0.537,SNIP指數(shù)為1.339。

期刊Ieee Transactions On Nuclear Science近年評價數(shù)據(jù)趨勢圖

中科院SCI期刊分區(qū)大類分區(qū)趨勢圖
期刊自引率趨勢圖
期刊CiteScore趨勢圖
期刊影響因子趨勢圖
期刊年發(fā)文量趨勢圖

期刊CiteScore指數(shù)統(tǒng)計(2024年最新版)

CiteScore指標的應用非常廣泛,以期刊的引用次數(shù)為基礎評估期刊的影響力。它可以反映期刊的學術影響力和學術水平,是學術界常用的期刊評價指標之一。

CiteScore SJR SNIP CiteScore 排名
3.7 0.537 1.339
學科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Energy 小類:Nuclear Energy and Engineering Q2 23 / 77

70%

大類:Energy 小類:Nuclear and High Energy Physics Q2 31 / 87

64%

大類:Energy 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 361 / 797

54%

CiteScore是由Elsevier公司開發(fā)的一種用于衡量科學期刊影響力的指標,以期刊的引用次數(shù)為基礎評估期刊的影響力。這個指標是由Scopus數(shù)據(jù)庫支持,以四年為一個時段,連續(xù)評估期刊和叢書的引文影響力的。具體來說,CiteScore是計算某期刊連續(xù)三年發(fā)表的論文在第四年度的篇均引用次數(shù)。CiteScore和影響因子(IF)有所不同。例如,在影響因子的計算中,分子是來自所有文章的引用次數(shù),包括編輯述評、讀者來信、更正信息和新聞等非研究性文章,而分母則不包括這些非研究性文章。然而,在CiteScore的計算中,分子和分母都包括這些非研究性文章。因此,如果這些非研究性文章比較多,由于分母較大,相較于影響因子,CiteScore計算出來的分數(shù)可能會偏低。此外,CiteScore的引用數(shù)據(jù)來自Scopus數(shù)據(jù)庫中的22000多個期刊,比影響因子來自Web of Science數(shù)據(jù)庫的11000多個期刊多了一倍。

期刊WOS(JCR)分區(qū)(2023-2024年最新版)

按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 211 / 352

40.2%

學科:NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY SCIE Q1 10 / 40

76.3%

按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 149 / 354

58.05%

學科:NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY SCIE Q2 13 / 40

68.75%

WOS(JCR)分區(qū)是由科睿唯安公司提出的一種新的期刊評價指標,分區(qū)越靠前一般代表期刊質(zhì)量越好,發(fā)文難度也越高。這種分級體系有助于科研人員快速了解各個期刊的影響力和地位。JCR將所有期刊按照各個學科領域進行分類,然后以影響因子為標準平均分為四個等級:Q1、Q2、Q3和Q4區(qū)。這種設計使得科研人員可以更容易地進行跨學科比較。

中科院SCI期刊分區(qū)

中科院SCI期刊分區(qū)是由中國科學院國家科學圖書館制定的。將所有的期刊按照學科進行分類,以影響因子為標準平均分為四個等級。分區(qū)越靠前一般代表期刊質(zhì)量越好,發(fā)文難度也越高。

2023年12月升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
工程技術 3區(qū)
NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 核科學技術 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣
2區(qū) 3區(qū)

2022年12月升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
工程技術 3區(qū)
NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 核科學技術 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣
1區(qū) 3區(qū)

2021年12月舊的升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
工程技術 3區(qū)
NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 核科學技術 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣
2區(qū) 3區(qū)

2021年12月基礎版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
工程技術 4區(qū)
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 核科學技術
4區(qū) 3區(qū)

2021年12月升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
工程技術 3區(qū)
NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 核科學技術 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣
2區(qū) 3區(qū)

2020年12月舊的升級版

Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
工程技術 3區(qū)
NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 核科學技術 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣
1區(qū) 3區(qū)

投稿提示

Ieee Transactions On Nuclear Science(中文譯名IEEE核科學匯刊雜志)是一本專注于工程技術,工程:電子與電氣領域的國際期刊,致力于為全球NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY領域的研究者提供一個高質(zhì)量的學術交流平臺。該期刊ISSN:0018-9499,E-ISSN:1558-1578,出版周期Bimonthly。在中科院的大類學科分類中,該期刊屬于工程技術范疇,而在小類學科中,它主要涵蓋了NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY這一領域。編輯部誠摯邀請廣大工程技術領域的專家學者投稿,內(nèi)容可以涵蓋工程技術的綜合研究、實踐應用、創(chuàng)新成果等方面。同時,我們也歡迎學者們就相關主題進行簡短的交流和評論,以促進學術界的互動與合作。為了保證期刊的質(zhì)量,審稿周期預計為 約3.0個月 。在此期間,編輯部將對所有投稿進行嚴格的同行評審,以確保發(fā)表的文章具有較高的學術價值和實用性。

值得一提的是,Ieee Transactions On Nuclear Science近期并未被列入國際期刊預警名單,這意味著其學術質(zhì)量和影響力得到了廣泛認可。該期刊為工程技術領域的學者提供了一個優(yōu)質(zhì)的學術交流平臺。因此,關注并投稿至Ieee Transactions On Nuclear Science無疑是一個明智的選擇,這將有助于提升您的學術聲譽和研究成果的傳播。

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投稿咨詢

期刊發(fā)文分析

機構發(fā)文量統(tǒng)計
機構 發(fā)文量
UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY (DOE) 105
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 100
VANDERBILT UNIVERSITY 93
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQ... 80
EUROPEAN ORGANIZATION FOR NUCLEAR RESEARCH... 76
CEA 73
ISTITUTO NAZIONALE DI FISICA NUCLEARE (INF... 58
UNIVERSITE DE TOULOUSE 34
UNIVERSITE DE MONTPELLIER 31
UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFENSE 29
國家 / 地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計
國家 / 地區(qū) 發(fā)文量
USA 331
CHINA MAINLAND 200
France 185
Italy 105
Switzerland 95
Japan 78
GERMANY (FED REP GER) 53
South Korea 44
England 41
Russia 37
期刊引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計
期刊引用數(shù)據(jù) 引用次數(shù)
IEEE T NUCL SCI 1985
NUCL INSTRUM METH A 350
J INSTRUM 147
APPL PHYS LETT 112
J APPL PHYS 102
IEEE T ELECTRON DEV 84
NUCL INSTRUM METH B 60
MED PHYS 52
MICROELECTRON RELIAB 50
PHYS MED BIOL 48
期刊被引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計
期刊被引用數(shù)據(jù) 引用次數(shù)
IEEE T NUCL SCI 1985
NUCL INSTRUM METH A 1041
PHYS MED BIOL 365
MICROELECTRON RELIAB 360
J INSTRUM 341
IEEE T ELECTRON DEV 192
PROG NUCL ENERG 188
ELECTRONICS-SWITZ 168
IEEE ACCESS 160
SENSORS-BASEL 159
文章引用數(shù)據(jù)次數(shù)統(tǒng)計
文章引用數(shù)據(jù) 引用次數(shù)
Needs, Trends, and Advances in Inorganic S... 53
Evolution of Total Ionizing Dose Effects i... 15
Contribution of Thermal Neutrons to Soft E... 12
Displacement Damage in Silicon Detectors f... 11
Improvement of the Time Resolution of Radi... 11
Influence of LDD Spacers and H+ Transport ... 9
LHC and HL-LHC: Present and Future Radiati... 9
Thin Silicon Microdosimeter Utilizing 3-D ... 9
Luminescence and Scintillation Properties ... 9
Single-Event Burnout Mechanisms in SiC Pow... 8

免責聲明

若用戶需要出版服務,請聯(lián)系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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